新聞公告
阿爾卡特CPM Etch 2610 2001年最佳產品
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阿爾卡特真空技術部驕傲地宣佈 阿爾卡特CPM Etch 2610系統被2001國際半導體編委評為最佳產品。成爲今年20個最優產品中的一個。
CPM Etch 2610設計為可減少設備缺陷率和為鋁腐蝕製程腔體增加MTBC，是適用於乾燥蝕刻工具的腔內壓力管理系統的第一款產品，可配置以適用於LAM Research TCP 9600製程模塊。 CPM Etch 2610可以極大地減少缺陷密度，減少在生產晶片上的金屬附屬物。 也可以消除用於壓力控制的節流閥而增加25%的蝕刻製程模塊MTBC，因此在製程工具上增加更多的生產時間和OEE。 此系統包括一個整合的真空管線，此真空管線從製程腔體隔離閥到幫浦上控制不同速度的排氣裝置，可以在蝕刻製程中不使用節流閥就可以控制壓力。還有一個可選擇的氣體調節系統，能夠綜合考慮用戶的要求進行調節。 此產品優化了3方面晶片蝕刻製程，包括減少缺陷（由於減少了微粒），提高了設備使用性（增加了MTBC），提高了環保能力（以用戶的角度處理廢氣）。 |
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