阿爾卡特ATH / M系列 應用於半導體領域的全磁浮渦輪幫浦
阿爾卡特的全磁浮渦輪幫浦可以用於半導體蝕刻製程（金屬，絕緣體或聚乙烯蝕刻），離子注入，濺蝕和CVD等場合。
阿爾卡特ATH 2300M能夠達到2000 sccm的氬抽氣量，可以滿足300mm晶片0.12微米的最高蝕刻製程要求。
阿爾卡特在ATH 2300M, ATH 1600M, ATH 1300M 和 ATH 400M中使用了消塵技術。這些產品具有極高的可靠性，能提供高吞吐量，高壓並能高速抽氣腐蝕性氣體。這些特點使其迅速成為全世界工廠渦輪幫浦的首選。
其它功能包括：
- 5 活動軸
-自動平衡系統
-嵌入式加熱設備
-惰性氣體淨化技術可以消塵
- 無需維護，無需電池
